衡全科密有限公司 / 旭海騰科技有限公司
HENG QUAN PRECISION CO.,LTD
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(UVW Alignment Stage)
型號:ASM31P-240
(平台大小可依客戶需求設計製造)
大陸消除背隙專利申請已通過
台灣發明專利申請中
對位平台作動速度快,長時間對關鍵零組件機構磨耗大、背隙也加大、且零組件之壽命會減短;因而產生對位精度差,且可能需來回對位多次,浪費業主的生產時間、降低生產速度、且良率差。
而本公司所發明的專利正可解決此等問題。本公司所生產的對位平台,用消除背隙之方法延續對位平台的壽命,維持住長時間的對位精度,當然自然會降低業者的風險且降低業主的購置成本。
應用場合如:曝光機、LED檢測、LCD檢測、雷射切割、晶圓切割、晶圓檢測、視覺檢測、光學檢測、貼合機、網印機、PCB對位機.....等等。
UVW對位平台圖說
衡全科密所生產的精密平台及機台,廣泛應用於各產業如半導體產業、LCD產業、PCB產業、傳統產業製程改良及學術界。
其設計過程皆與客戶深入溝通,了解客戶需求所設計製造出的平台與機台,在精度上皆有嚴謹的要求,組裝程序上也有相當訓練。